A XXI. század technológiája elképzelhetetlen a mikro- és nanoelektronikai ipar nélkül. A szektorban előállított számos különféle termék jelenti a modern számítástechnika és kommunikáció alapját.
Félvezető eszközök nélkül nem létezhet személyi számítógép, okostelefon, digitális képalkotás, és még sorolhatnánk. A rohamos fejlődésnek mindannyian tanúi lehetünk, hiszen évről évre gyorsabb, nagyobb tudású, sokrétűbben alkalmazható eszközöket vehetünk kezünkbe. Ezt a folyamatot Moore törvénye írja le, amely kimondja, hogy a mikrocsipek számítási kapacitása körülbelül két év alatt megduplázódik. Az ebből fakadó költségek optimalizálásának egyik módja, hogy a gyártás egyre nagyobb, költséghatékonyabb egységekben történik, azaz a gyártáshoz egyre nagyobb méretű szilícium-szeletet használnak fel alapanyagként. A fejlődés azonban nem mehetne végbe a megfelelő gyártástechnológia nélkül, ennek folyamatos korszerűsítése pedig intenzív kutatás-fejlesztést igényel.
Az európai félvezetőiparban hagyományosan sikeres, erős szereplők a mikroelektronikai gyárak berendezéseit, eszközeit fejlesztő, gyártó és forgalmazó vállalatok. Ezen cégekből alakult a 450 mm-es szilíciumszeletre épülő kísérleti gyártósort megvalósító konzorcium, amelyet a holland ASML vezet. A konzorcium az elmúlt 3 évben sikeresen hajtotta végre a projektet, amelynek során új berendezések fejlesztése, valamint prototípusainak tesztelése történt meg, a következő években bevezetendő új gyártástechnológiai eljárások követelményeinek megfelelően.
A magyar résztvevők méréstechnikai eljárásokat és berendezéseket fejlesztettek. Egyikük, az iparágban 25 éves tapasztalattal rendelkező Semilab Zrt. A projekt során a modern mikroelektronikai alkatrészek kialakításánál használt, új összetételű szigetelőanyagok elektromos tulajdonságainak meghatározására alkalmas, 450 mm átmérőjű szilíciumszeleten használható készüléket fejlesztett ki. A készülék prototípusát a félvezetőipari alkalmazott kutatás legnagyobb európai intézetében, a belgiumi IMEC-ben sikeresen tesztelték, az eredmények szerint a készülék a kitűzött célok elérésére alkalmas.
A másik résztvevő az MTA EK Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Kutatóintézet (MFA) Fotonika Osztály a projektben a mikroelektronikai gyártásban használt vékonyrétegek vastagságát nanométernél jobb pontossággal, ugyanakkor egyszerre nagy felületen, nagy sebességgel meghatározó, optikai elven működő mérőberendezést készített. A berendezés prototípusát a németországi Fraunhofer IISB mikroelektronikai kutatóintézet kísérleti leválasztó-berendezéséhez illesztve félüzemi körülmények között sikeresen tesztelték.
A projekt a Nemzeti Kutatási, Fejlesztési- és Innovációs Alap, és a ECSEL Joint Undertaking nemzetközi szervezet támogatásával valósult meg, 2013. október 1 – 2016. szeptember 30. között, NEMZ_12-2013-001 számon, a Széchenyi 2020 program keretében.
