Frank-Walter Steinmeier német szövetségi elnök kihirdette a Deutscher Zukunftspreis 2020 (Német jövőért 2020 díj) nyerteseit. A szövetségi elnök a ZEISS SMT, a TRUMPF és Fraunhofer Intézet alkotta csapatot díjazta, átadva nekik a technológiai és innovációs díjat az „EUV litográfia – Új fény a digitális korban” című projektjükért. A győztes csapat jelentősen hozzájárult az úgynevezett EUV technológia fejlesztéséhez és az ipari sorozatgyártásra történő előkészítéséhez. Az eredmény, egy több mint 2000 szabadalommal támogatott, időtálló technológia, amely mindennapi életünk digitalizációjának alapját képezi, és olyan alkalmazások használatát teszi lehetővé, mint: az automatizált vezetés, az 5G, a mesterséges intelligencia és más jövőbeli újítások. Az EUV-nak köszönhetően eddig több mint 3300 csúcstechnológiás munkahely jött létre a ZEISS-nél és a TRUMPF-nál, és 2019-ben több mint egymilliárd eurós – és emelkedő tendenciájú – éves forgalom keletkezett.

Nagyobb teljesítményű és költséghatékonyabb mikrochipek

A hatékony digitalizálás a számítási teljesítmény folyamatos és gyors növelését igényli. A mai okostelefonok milliószor nagyobb teljesítményűek, mint az 1969-es első holdraszálláskor használt számítógép. Ezt egy ujjhegynél kisebb, de több mint tizenötmilliárd tranzisztort befogadni képes mikrochip teszi lehetővé. A holland ASML vállalat a világ egyetlen EUV litográfiai gépgyártója. Integrátorként a vállalat a teljes rendszerarchitektúrát és különösen az EUV forrást tervezte meg. A TRUMPF EUV fényforrásként szolgáló nagy teljesítményű lézere és a ZEISS optikai rendszere kulcsfontosságú eleme ezeknek a gépeknek. Az EUV „extrém ultraibolya”, azaz extrém rövid hullámhosszúságú fényt jelent. Ez a páratlan, kulcsfontosságú technológia jelentősen nagyobb teljesítményű, energiahatékonyabb és költséghatékonyabb mikrochipek előállítására használható a jelenlegi és a következő évtizedben is.

A legújabb chip-generációk gyártási folyamata az EUV fény használatán alapul, kitolva a technológiai megvalósíthatóság határait. A fényforráson és a vákuumban működő optikai rendszeren keresztül a folyamatban alkalmazott tükrök felületének bevonatáig mindent – gyakorlatilag a teljes expozíciós technológiát – a semmiből kellett előállítani.

EUV technolgóia – német-európai sikertörténet

„Szívből gratulálunk nyertes csapatunknak, amely több ezer EUV fejlesztőt képvisel. Partnereinkkel együtt örülünk annak, hogy átvehetjük ezt a díjat a német szövetségi elnöktől, mely rendkívül munkaigényes fejlesztések és azok globális piacokat uraló technológiákba való átültetésének elismerését jelenti”

– mondta Dr. Markus Weber, a ZEISS Csoport Igazgatóságának tagja és a félvezető gyártástechnológiai szegmens vezetője.

„A ZEISS az optikai kiválóságot és pontosságot jelenti. Ez mindig is kulcsfontosságú tényező volt a chipgyártásban. Áttörést jelentő innovációként az EUV technológia továbbra is jelentős fejlődést tesz lehetővé az üzleti életben és a társadalomban végbemenő digitalizáció területén. Büszkék vagyunk arra, hogy stratégiai partnereinkkel, ASML-lel, a TRUMPF-fal és a Fraunhofer-rel hozzájárulhatunk mindehhez”.

A TRUMPF Csoport igazgatótanácsának alelnöke és Peter Leibinger Műszaki igazgató elmondta:

„Nagyon örülünk, hogy a TRUMPF munkatársai, Dr. Michael Kösters, Dr. Peter Kürz és Dr. Sergiy Yulin, valamint a ZEISS és a Fraunhofer IOF nyerte meg a Deutscher Zukunftspreis 2020 versenyt. A találékonyság, a technológiai ismeretek, a kitartás és a jó csapatmunka ötvözésével kiváló példát szolgáltatnak arra vonatkozóan, hogy a jövőbeli technológiákat erős partnerségek révén hogyan lehet ipari érettségig fejleszteni. A díj ismét megmutatja, hogy az erős ipar és a kiemelkedő kutatási teljesítmény döntő szerepet játszik az évszázad kihívásainak leküzdésében. A EUV litográfiai mamut-projekt munkahelyeket teremt a Koronavírus-évében, miközben biztosítja, hogy Európa úttörő szerepet játsszon a korszerű mikrochipek gyártásában”.

A TRUMPF a világ legerősebb ipari impulzuslézerével egy kulcsfontosságú elemet biztosít a minden modern okostelefonban felhasznált legmodernebb mikrochipek előállításához. Ennek a lézernek nincs gazdaságos alternatívája az EUV litográfiához szükséges fény előállításában. A megvilágítási rendszer minősége és formája, valamint a ZEISS vetítési optikájának felbontóképessége határozza meg, hogy milyen kicsik lehetnek a mikrochipeken lévő struktúrák. Az optikai rendszerben használt tükrök tehát jelentős újításokat tartalmaznak. Mivel a legkisebb egyenetlenségek is leképzési hibákhoz vezetnek, az EUV litográfiához a világ „legpontosabb” tükrét fejlesztették ki. Fraunhofer fontos kutatási partner volt a nagyméretű tükrök kifinomult bevonatképzési technológiájában.

„Gratulálunk a ZEISS, a TRUMPF és a Fraunhofer IOF kutatóinak ehhez a nagyszerű díjhoz és kiváló munkájukért. Az EUV litográfia területén kifejlesztettek egy olyan technológiát, amely globális digitalizációs lendületet biztosít, és ezáltal megalapozza a további innovációkat is”

– mondja Reimund Neugebauer professzor, a Fraunhofer-Gesellschaft elnöke.

„A közel három évtizedes kutatás során a Fraunhofer tudósai nagy szerepet játszottak az első EUV tükrök és sugárforrások kifejlesztésében. Az a tény, hogy az EUV litográfiát alkalmazzák, a tudomány és az ipar közötti intenzív együttműködésnek, valamint a kutatás szellemének és az összes érintett fél tartós elkötelezettségének is köszönhető”.

Kitüntetés az innovatív mérnöki és élettudományi eredményekért

1997 óta minden évben átadják a Deutsche Zukunftspreis-t. Ez az egyik legmagasabb szintű elismerés a tudományos eredményekért Németországban, melynek értéke 250 000 euró. A technológia, a mérnöki tudományok és az élettudományok területén azokat a kivételes eredményeket jutalmazza, amelyek életképes termékeket eredményeztek. Egy többlépcsős kiválasztási folyamat során a rangos zsűri minden évben számos projekt közül három kutatócsoportot választ ki az innovációjuk alapján az utolsó fordulóba, a „rövid listára”. Innovatív eredményeiken túlmenően a zsűri értékeli a fejlesztés gazdasági és társadalmi potenciálját is. A győztes EUV csapat mellett a Carl Zeiss Meditec csapata is felkerült a rövid listára. A ZEISS tehát a Deutscher Zukunftspreis történetében elsőként két jelölést kapott. A díjat a Verti Music Hall-ban pandémiás korlátozások mellett Frank-Walter Steinmeier szövetségi elnök adta át Berlinben, 2020. november 25-én. A ZEISS és a TRUMPF a pénzdíjat jótékonysági célokra ajánlja fel.

Forrás: TRUMPF

The post Elismerés az EUV technológiában appeared first on Műszaki Magazin.