„Termikus kényelemről” akkor beszélünk, ha az épülethasználók nem vágynak melegebb, hidegebb, szárazabb, nedvesebb levegőre. A kényelmi tartomány, amelyben a helyiséghasználók nagy része jól érzi magát 18 °C és 24 °C között, illetve 40-60 %-os relatív páratartalom között van. Talán nem is kell mondanunk, hogy ez milyen ritkán teljesül.

A Fraunhofer IAO tanulmánya az Office 21 közös kutatási projekt keretében a munka és iroda világáról azt állapította meg, hogy az irodahasználók közel 40%-a elégedetlen az irodai környezettel. A zavaró tényezők között pedig gyakran emlegetett probléma a páratartalom hiánya, mely jelentős negatív hatással van az általános közérzetre, sőt kifejezetten káros egészségügyi hatásai is lehetnek.

Ezzel a tudással fontos optimalizálási potenciál került a munkáltatók és épületfelelősök kezébe, amit hasznosítani tudnak a munka- és irodakörnyezet kialakítása során.

Kifejezetten a helyiségklíma termelékenységre gyakorolt lehetséges hatását a brit „Whole Life Performance Plus tanulmány” állapította meg. A tanulmány megerősíti, hogy az optimális helyiségklíma fokozni tudja a munkavállalók teljesítményét, gyorsaságát és pontosságát. Mi több, az ideális klíma, így a páratartalom a gépek védelmét is szolgálja, hiszen segít szabályozott keretek közé szorítani a sztatikus kisüléseket, amelye meghibásodásokat, leállásokat okozhatnak.

Összefoglalva tehát: azok a cégek, amelyek befektetnek a termelési és munkavégzési helyiségek klímájába, a gépek védelme mellett egy sor további pozitív hatásra számíthatnak a munkavállalóiknál: kevesebb hiányzásra, magasabb termékminőségre, fokozottabb munkahelyi teljesítményre, erősebb munkavállalói kötődésre és kreativitásra.

Hozzon ki többet kollégái munkavégzéséből ön is, látogasson el weboldalunkra és tudjon meg többet!
www.condair-systems.hu/klimaellenorzes

The post Javítsa a munkavégzést optimális helyiségklíma biztosításával appeared first on Műszaki Magazin.

Az öntészeti-, kompozit- és megmunkálási eljárásokat kutató Fraunhofer Institute IGCV elsősorban a tervezési, gyártási és többanyagos alkalmazásokhoz kapcsolódó kutatásokat végez. Ez utóbbiakat a „MULTIMATERIAL-Zentrum Augsburg“ nagyprojekt keretein belül végzik, ami Németország egyik legnagyobb additív gyártással kapcsolatos projektje.

A vizsgált additív gyártási folyamatok fókuszában a lézeres olvasztás, a hidegpermetezés, valamint a huzalos közvetlen energia lerakás (DED) áll. A Bajor Állami Gazdasági, Regionális Fejlesztési és Energiaügyi Minisztérium által finanszírozott projekt tíz technológiai projektre oszlik, amelyek a fémes mechatronikai alkatrészek additív gyártásával foglalkoznak a termék- és folyamatfejlesztés, az utómunkák, valamint az üzemtervezés keretein belül. Az egyik ilyen alprojekt a MULTIREIN, amely az alkatrészek vagy folyamatok minőségének biztosítására szolgáló megoldásokat kutatja adaptált elemző, megfigyelő és tisztító eljárásokkal. Ehhez, valamint az additív gyártás és a műszaki tisztaság területén zajló egyéb kutatási projektekhez az LPW Riederichben egy tisztítórendszert épített ki, amelyet kifejezetten az augsburgi kutatócég rugalmas folyamataihoz terveztek.

A globális szinten növekvő piacnak számító „additív gyártás” (AM) minden iparág számára új kihívásokat jelent. A Fraunhofer IGCV az AM folyamatok a termelési láncokba történő automatizált integrálását vizsgálja. A műszaki tisztaság szempontjából a tisztítási eredmények eddig nem voltak kellően reprodukálhatók, és a gyakorlatban gyakran vezettek minőségi reklamációkhoz. A későbbi folyamatokra vonatkozó tisztasági határértékek vagy szabványok hiánya pedig megnehezíti a rendszertechnológia kiválasztását és paraméterezését.

Az additív eljárásokkal gyártott alkatrészeket komplex szerkezetek jellemzik, ahogy a képen látható teszttesten is látható (Forrás: Fraunhofer IGCV)

Az automatizált tisztítási folyamatlánc megvalósítása

Az LPW és az augsburgi kutatóintézet a kutatási projektekben való együttműködésének köszönhetően a múltban már sok tapasztalat gyűlt össze az additív eljárással készült alkatrészek CNp technológiával történő tisztításában. A tisztítástechnika riederichi (Baden-Württemberg) szakértői már számos additív folyamatban részt vettek és saját K+F tevékenységeik mellett egy vállalatcsoportban hozzájárulnak az additív gyártás utómunkálatai átfogó koncepciójának kidolgozásához is.

Az LPW műszaki központjában az összetett AM szerkezetekhez adaptált tisztítási eljárások előnyeit egy speciális tesztsorozatban mutatták ki, additív módon előállított mintaalkatrészekkel. Összehasonlítást végeztek elsősorban az automatizált, vibrációs alapú pormentesítés, a folyadékbázisú ultrahangos, illetve a CNp eljárások, valamint ezek kombinációi között. Ezek közül a mosási mechanikát tekintve erős ultrahangos eljárás és a geometriától független CNp-technológia kombinációja garantált folyamatos és megismételhető tisztítási és öblítési eredményeket még a komplex geometriák esetében is. Összesen tizenkét esetben érték el így a legjobb eredményt a tesztsorozat során.

A tisztítástechnika számos kihívást jelent az additív gyártás kutatási területén. Az alkatrészek összetett és filigrán szerkezete különösen kritikus tényezőnek számít. A topológiai optimalizálásnak és a funkcionális integrációnak köszönhetően sok alkatrész jó funkcionalitással rendelkezik, de a bonyolult geometriák megnehezítik a tisztítást. A kis tételméretek azt is jelentik, hogy a folyamatokat nem lehet hosszú távra megtervezni és optimalizálni. Az additív gyártás mellett a Fraunhofer IGCV más témákat is kutat, például az újragyártást, vagy az akkumulátorcellák gyártását. Éppen ezért a tisztítórendszereket a lehető legrugalmasabban kell kialakítani a mindennapi kutatásokhoz.

Az LPW számára készült megfelelő rendszerkonstrukció így néz ki:

Három fokozatú kamrás tisztítórendszer a PowerJet 530 CNp sorozatból, kézi betöltéssel, két tisztító- és egy öblítőtartállyal. A tételméret 300 × 300 × 300 mm a kosárban vagy palettán érkező termékekhez. A tisztítórendszert ezenkívül kb. 5,5 bar nyomású öblítő- és befecskendező egységgel, 10 W/l és 25 kHz-es ultrahangos tisztítással, illetve integrált CNp-tisztítással és -öblítéssel is felszerelték. A szárítás a kamrában történik beépített forrólevegős vákuumszárítással. A kötelező távoli karbantartás mellett a rendszer OPCUA interfésszel is rendelkezik az adatátvitelhez és -cseréhez.

Rugalmas használat

A Fraunhofer IGCV tisztítórendszere nagyon eltérő feladatokat végez. Jelenleg a fémből készült, lézeres olvasztású alkatrészekkel és a műanyagból készült lézerszinterezett termékekkel kapcsolatos projektek vannak napirenden. A rendszert ezenkívül ipari projektekhez is használják, amelyek vevőspecifikus követelményeket támasztanak annak érdekében, hogy reális megoldásokat találjanak a gazdasági szereplők számára.

„Az előzetes és első tesztekben szerzett korábbi tapasztalatok azt mutatják, hogy a CNp technológia komoly lehetőségeket rejt magában az összetett geometriák hatékony tisztításában – jelentette ki Timo Schießl, az Augsburgi Kutatóintézet tudományos munkatársa. – A modern tisztítási technológiának köszönhetően technikai központunkban már egy olyan rendszer van, amellyel még intenzívebben kutathatjuk a tisztítási folyamatláncokat.”

„Évek óta intenzíven dolgozunk az új feladatokhoz és a változó gyártási paraméterekhez kapcsolódó rendszerek és a folyamatok fejlesztésén – tette hozzá Dirk Konzok, az LPW értékesítési igazgatója és cégvezetője. – A projekt tökéletesen illeszkedik a kompetenciánkhoz és nagy örömmel tölt el az IGCV csapatával végzett aktív és alapos tapasztalatcsere.”

Szerzők: Gerhard Koblenzer, az LPW Reinigungssysteme ügyvezető igazgatója;

Timo Schießl, M.Sc. Minőség és műszaki tisztaság, Fraunhofer-Institut für Gießerei-, Composite- und Verarbeitungstechnik IGCV

www.lpw-reinigungssysteme.de
www.igcv.fraunhofer.de
www.rolatast.hu

The post Additív eljárásokkal gyártott alkatrészek tisztítása appeared first on Műszaki Magazin.

Frank-Walter Steinmeier német szövetségi elnök kihirdette a Deutscher Zukunftspreis 2020 (Német jövőért 2020 díj) nyerteseit. A szövetségi elnök a ZEISS SMT, a TRUMPF és Fraunhofer Intézet alkotta csapatot díjazta, átadva nekik a technológiai és innovációs díjat az „EUV litográfia – Új fény a digitális korban” című projektjükért. A győztes csapat jelentősen hozzájárult az úgynevezett EUV technológia fejlesztéséhez és az ipari sorozatgyártásra történő előkészítéséhez. Az eredmény, egy több mint 2000 szabadalommal támogatott, időtálló technológia, amely mindennapi életünk digitalizációjának alapját képezi, és olyan alkalmazások használatát teszi lehetővé, mint: az automatizált vezetés, az 5G, a mesterséges intelligencia és más jövőbeli újítások. Az EUV-nak köszönhetően eddig több mint 3300 csúcstechnológiás munkahely jött létre a ZEISS-nél és a TRUMPF-nál, és 2019-ben több mint egymilliárd eurós – és emelkedő tendenciájú – éves forgalom keletkezett.

Nagyobb teljesítményű és költséghatékonyabb mikrochipek

A hatékony digitalizálás a számítási teljesítmény folyamatos és gyors növelését igényli. A mai okostelefonok milliószor nagyobb teljesítményűek, mint az 1969-es első holdraszálláskor használt számítógép. Ezt egy ujjhegynél kisebb, de több mint tizenötmilliárd tranzisztort befogadni képes mikrochip teszi lehetővé. A holland ASML vállalat a világ egyetlen EUV litográfiai gépgyártója. Integrátorként a vállalat a teljes rendszerarchitektúrát és különösen az EUV forrást tervezte meg. A TRUMPF EUV fényforrásként szolgáló nagy teljesítményű lézere és a ZEISS optikai rendszere kulcsfontosságú eleme ezeknek a gépeknek. Az EUV „extrém ultraibolya”, azaz extrém rövid hullámhosszúságú fényt jelent. Ez a páratlan, kulcsfontosságú technológia jelentősen nagyobb teljesítményű, energiahatékonyabb és költséghatékonyabb mikrochipek előállítására használható a jelenlegi és a következő évtizedben is.

A legújabb chip-generációk gyártási folyamata az EUV fény használatán alapul, kitolva a technológiai megvalósíthatóság határait. A fényforráson és a vákuumban működő optikai rendszeren keresztül a folyamatban alkalmazott tükrök felületének bevonatáig mindent – gyakorlatilag a teljes expozíciós technológiát – a semmiből kellett előállítani.

EUV technolgóia – német-európai sikertörténet

„Szívből gratulálunk nyertes csapatunknak, amely több ezer EUV fejlesztőt képvisel. Partnereinkkel együtt örülünk annak, hogy átvehetjük ezt a díjat a német szövetségi elnöktől, mely rendkívül munkaigényes fejlesztések és azok globális piacokat uraló technológiákba való átültetésének elismerését jelenti”

– mondta Dr. Markus Weber, a ZEISS Csoport Igazgatóságának tagja és a félvezető gyártástechnológiai szegmens vezetője.

„A ZEISS az optikai kiválóságot és pontosságot jelenti. Ez mindig is kulcsfontosságú tényező volt a chipgyártásban. Áttörést jelentő innovációként az EUV technológia továbbra is jelentős fejlődést tesz lehetővé az üzleti életben és a társadalomban végbemenő digitalizáció területén. Büszkék vagyunk arra, hogy stratégiai partnereinkkel, ASML-lel, a TRUMPF-fal és a Fraunhofer-rel hozzájárulhatunk mindehhez”.

A TRUMPF Csoport igazgatótanácsának alelnöke és Peter Leibinger Műszaki igazgató elmondta:

„Nagyon örülünk, hogy a TRUMPF munkatársai, Dr. Michael Kösters, Dr. Peter Kürz és Dr. Sergiy Yulin, valamint a ZEISS és a Fraunhofer IOF nyerte meg a Deutscher Zukunftspreis 2020 versenyt. A találékonyság, a technológiai ismeretek, a kitartás és a jó csapatmunka ötvözésével kiváló példát szolgáltatnak arra vonatkozóan, hogy a jövőbeli technológiákat erős partnerségek révén hogyan lehet ipari érettségig fejleszteni. A díj ismét megmutatja, hogy az erős ipar és a kiemelkedő kutatási teljesítmény döntő szerepet játszik az évszázad kihívásainak leküzdésében. A EUV litográfiai mamut-projekt munkahelyeket teremt a Koronavírus-évében, miközben biztosítja, hogy Európa úttörő szerepet játsszon a korszerű mikrochipek gyártásában”.

A TRUMPF a világ legerősebb ipari impulzuslézerével egy kulcsfontosságú elemet biztosít a minden modern okostelefonban felhasznált legmodernebb mikrochipek előállításához. Ennek a lézernek nincs gazdaságos alternatívája az EUV litográfiához szükséges fény előállításában. A megvilágítási rendszer minősége és formája, valamint a ZEISS vetítési optikájának felbontóképessége határozza meg, hogy milyen kicsik lehetnek a mikrochipeken lévő struktúrák. Az optikai rendszerben használt tükrök tehát jelentős újításokat tartalmaznak. Mivel a legkisebb egyenetlenségek is leképzési hibákhoz vezetnek, az EUV litográfiához a világ „legpontosabb” tükrét fejlesztették ki. Fraunhofer fontos kutatási partner volt a nagyméretű tükrök kifinomult bevonatképzési technológiájában.

„Gratulálunk a ZEISS, a TRUMPF és a Fraunhofer IOF kutatóinak ehhez a nagyszerű díjhoz és kiváló munkájukért. Az EUV litográfia területén kifejlesztettek egy olyan technológiát, amely globális digitalizációs lendületet biztosít, és ezáltal megalapozza a további innovációkat is”

– mondja Reimund Neugebauer professzor, a Fraunhofer-Gesellschaft elnöke.

„A közel három évtizedes kutatás során a Fraunhofer tudósai nagy szerepet játszottak az első EUV tükrök és sugárforrások kifejlesztésében. Az a tény, hogy az EUV litográfiát alkalmazzák, a tudomány és az ipar közötti intenzív együttműködésnek, valamint a kutatás szellemének és az összes érintett fél tartós elkötelezettségének is köszönhető”.

Kitüntetés az innovatív mérnöki és élettudományi eredményekért

1997 óta minden évben átadják a Deutsche Zukunftspreis-t. Ez az egyik legmagasabb szintű elismerés a tudományos eredményekért Németországban, melynek értéke 250 000 euró. A technológia, a mérnöki tudományok és az élettudományok területén azokat a kivételes eredményeket jutalmazza, amelyek életképes termékeket eredményeztek. Egy többlépcsős kiválasztási folyamat során a rangos zsűri minden évben számos projekt közül három kutatócsoportot választ ki az innovációjuk alapján az utolsó fordulóba, a „rövid listára”. Innovatív eredményeiken túlmenően a zsűri értékeli a fejlesztés gazdasági és társadalmi potenciálját is. A győztes EUV csapat mellett a Carl Zeiss Meditec csapata is felkerült a rövid listára. A ZEISS tehát a Deutscher Zukunftspreis történetében elsőként két jelölést kapott. A díjat a Verti Music Hall-ban pandémiás korlátozások mellett Frank-Walter Steinmeier szövetségi elnök adta át Berlinben, 2020. november 25-én. A ZEISS és a TRUMPF a pénzdíjat jótékonysági célokra ajánlja fel.

Forrás: TRUMPF

The post Elismerés az EUV technológiában appeared first on Műszaki Magazin.

A cél egyértelmű volt: minden korábbinál nagyobb hatékonyságú napenergia panel prototípusát kellett kidolgozniuk. A speciális k+f projekt lezárásaként kiadott hivatalos közlemény szerint új napenergia-konverziós hatékonysági csúcsot értek el azzal, hogy sikerült a hatásfokot 41,4 százalékos szintre emelni. Ez a bejelentés azonban nem csak azért érdekes, mert az ugyancsak német Insolight két évvel ezelőtti, 34 százalékos hatékonysági csúcsának megdöntését jelenti, hanem azért is, mert most először, nem az izolált körülményeket biztosító laboron, és a “pénz nem számít” alapon kísérletező, űrtechnológiát is beépítő fejlesztésen volt a hangsúly. Sokkal inkább azon, hogy a napelemipar meglévő technikai lehetőségeit figyelembe véve, a fókuszt a gyárthatóság és felhasználhatóság is megkapja.

A kutatók már a projekt elején arra készültek, hogy a kifejlesztendő, ún. koncentrált napelem-rendszereknek (CPV) tömeggyártásra előkészített állapotig kell eljutniuk, mégpedig úgy, hogy versenyképesek lehessenek költségben és hatékonyságban is. A feladványhoz a megoldókulcsot a nagy koncentrációjú fotovoltaikus (HCPV) rendszerek jelentették. A hagyományos napelemek és a (H)CPV rendszerek közti különbséget azzal a legegyszerűbb szemléltetni, hogy a napelemek ún. félvezető csomópontokat tartalmaznak, ezek nyelik el a fényt – vagyis alakítják át a fényt elektromos árammá. A hagyományos szilíciumcelláknak egyetlen ilyen csomópontjuk van, a CPV-knek viszont több, ráadásul a többszörös összeköttetésű cellákban több különböző anyagot használva ezek tovább többszörözhetők. A CPVMatch projektben új és költséghatékony módszereket fejlesztenek ki a négy csomópontú alapegységek előállítására.

A most kifejlesztett rendszer többcsatornás napelemekre épül, és a panel, illetve a modul közötti optikai kölcsönhatás jobb kihasználására koncentrál. Ez utóbbi jelentősége az, hogy az optikai lencsék a bejövő napfényt egy miniatűr napelemekre koncentrálják – gyakorlatilag egész nap, mivel a modulok mindegyike két tengelyes napkövető rendszerre van telepítve, hogy a lehető legtöbbet kihozzák a terület adottságaiból.  A kutatók a többlépcsős napelem megépítésével elérték, hogy a modul mérete 122 négyzetcentiméter legyen, hatásfoka pedig 41,4 százalék.

forrás: www.napi.hu

The post Rekordhatékonyságú napelemes energiatermelés appeared first on Műszaki Magazin.